¡A limpiar agua con óxidos! Química de materiales al servicio del ambiente

Autores/as

  • Ana Luisa Martínez García Laboratorio de Diseño y Optimización de Recubrimientos Avanzados
  • Zeuz Montiel González Laboratorio de Diseño y Optimización de Recubrimientos Avanzados
  • Obed Yamín Ramírez Esquivel Laboratorio de Diseño y Optimización de Recubrimientos Avanzados
  • Dalia Alejandra Mazón Montijo Laboratorio de Diseño y Optimización de Recubrimientos Avanzados

Palabras clave:

fotocatalizador, recubrimientos avanzados, semiconductores, materiales fotoactivos, agua contaminada

Resumen

En este artículo se aborda un tema de interés global: la descontaminación del agua a través de la acción de fotocatalizadores. Actualmente, existen contaminantes persistentes en casi todos los recursos hídricos del mundo que no pueden limpiarse con tratamientos convencionales, principalmente debido a su alta estabilidad química. Por ello, se recurre a procesos avanzados tales como la fotocatálisis, donde un material conocido como fotocatalizador es el actor principal. Sin embargo, los procesos fotocatalíticos aún están lejos de alcanzar su máxima eficiencia, por lo que la búsqueda de métodos alternativos para el mejoramiento del desempeño es una preocupación vigente, sobre todo considerando el aprovechamiento de la luz del Sol y en la forma en que se ponen en contacto el fotocatalizador y el agua contaminada. Con la ayuda de la química de materiales, te contamos cómo es que capas delgadas de unos óxidos tan comunes el óxido de hierro y óxido de zinc podrían funcionar como un fotocatalizador con alto potencial para descontaminar el agua de una manera más eficiente y con el menor impacto al ambiente.

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Biografía del autor/a

Ana Luisa Martínez García, Laboratorio de Diseño y Optimización de Recubrimientos Avanzados

Maestra en Ingeniería e Ingeniero Químico por el Tecnológico Nacional de México, IT Nuevo León e IT Matamoros, respectivamente. Actualmente, funge como auxiliar de investigación en el grupo DORA-Lab. Sus intereses se relacionan con la investigación y desarrollo de materiales nanoestructurados que puedan tener aplicación en procesos fotocatalíticos.

Zeuz Montiel González, Laboratorio de Diseño y Optimización de Recubrimientos Avanzados

Doctor en Ciencia e Ingeniería de Materiales por la UNAM. Desde el 2015 es profesor-investigador Catedrático CONACYT asignado al Centro de Investigación en Materiales Avanzados S. C. (CIMAV), subsede Monterrey. Pertenece al SNI nivel 1. Especializado en síntesis de recubrimientos por métodos en fase vapor y en la caracterización espectroscópica de materiales. Fundador y responsable del grupo DORA-Lab.

Obed Yamín Ramírez Esquivel, Laboratorio de Diseño y Optimización de Recubrimientos Avanzados

Doctor en Nanotecnología por el Centro de Investigación en Materiales Avanzados S. C. (CIMAV), subsede Monterrey. Adscrito a la Unidad Académica de Ciencia y Tecnología de la Luz y la Materia de la Universidad Autónoma de Zacatecas. Desde el año 2017 es miembro del grupo DORA-Lab y a partir del 2020 forma parte del SNI nivel Candidato. Especializado en investigación y desarrollo de materiales nanoestructurados particularmente en la síntesis y caracterización de películas delgadas.

Dalia Alejandra Mazón Montijo, Laboratorio de Diseño y Optimización de Recubrimientos Avanzados

Doctora en Ciencia e Ingeniería de Materiales por la UNAM. Desde el 2018 a la fecha es profesor-investigador Catedrático CONACYT asignado al Tecnológico Nacional de México campus Nuevo León. Pertenece al SNI nivel 1. Cuenta con más de quince años de experiencia en investigación enfocada en la síntesis por métodos químicos en solución, caracterización y aplicación de películas semiconductoras. Fundador y responsable del grupo DORA-Lab.

Publicado

05-09-2022